2026年01月26日/ 浏览 7
国产厂商突破存储技术瓶颈,预计需要 3到5年 时间实现全面突破,但不同领域进度不一,整体呈现分层推进的格局。当前,AI算力需求激增推动存储芯片涨价,三星电子在2026年第一季度将NAND闪存价格上调 100%以上,这凸显了国产替代的紧迫性,也为国内企业提供了市场窗口。
在消费级存储市场,国产厂商已经和国际巨头站在了同一梯队。长江存储凭借自研的 Xtacking架构,实现了 294层3D NAND闪存的量产,良率稳定在 90%以上,性能与三星、美光同代产品持平,但成本低了 10%-15%。

其自主品牌“致态”SSD在京东自营平台的销量占比,从2023年的12%跃升至2024年的28%,芯片已进入华为、小米、联想、戴尔等大客户供应链。
另一边,长鑫存储在DRAM内存领域也追平了国际水平。其DDR5芯片最高速率达 8000Mbps,LPDDR5X速率达到 10667Mbps,19nm工艺良率超过 95%。2025年,长鑫存储全球DRAM市场份额已达 3.97%,位居全球第四。
这意味着,在手机、电脑等主流设备所需的存储芯片上,国产技术瓶颈基本被攻克,凭借稳定的产能和成本优势,正在快速提升市场份额。
然而,决定AI算力上限的 高带宽内存(HBM),仍是国产存储需要翻越的最高一座山。当SK海力士在2024年率先量产12层堆叠的HBM3E时,长鑫存储的HBM3产品尚处于系统测试阶段,基于16纳米制程和8层堆叠,带宽为6400Mbps。
更关键的是,量产良率成为直接制约竞争力的瓶颈——长鑫存储HBM3的当前良率约 50%,而SK海力士的混合键合良率已高达 95%。
但追赶的速度比预想更快。国产供应链正在加速突围:
长鑫存储已完成HBM3工程样品开发,计划2026年实现量产。华为自研的 HiBL 1.0 HBM存储技术,为昇腾AI芯片量身定制,实现了供应链自主化,其搭载的昇腾950PR,HBM内存带宽达 4TB/s。国内封测企业如盛合晶微,其HBM3封装良率也已达到 95%,追平国际巨头。综合来看,在HBM领域,国产技术与国际领先水平的差距已缩至 2-3年。要实现从“可用”到“好用”、具备市场竞争力,预计还需 3-5年 的持续攻坚和良率爬坡。
技术突破的背后,是整个产业链的协同发力。国产存储不再单打独斗,而是与上游设备、材料企业深度绑定,构建自主生态。
例如,长江存储首条全国产化产线设备国产化率已达 45%,北方华创的刻蚀设备占其采购额四成多。
在核心材料环节,南大光电的ArF光刻胶已通过中芯国际14nm制程验证,彤程新材的KrF光刻胶则进入长江存储3D NAND产线,每月供应超5000升。这些突破逐步降低了对外部供应链的依赖。
产能扩张也在同步加速。长鑫存储募资 295亿元 加码扩产,目标在2026年将HBM专用产能提升至月产 5万片 晶圆。长江存储三期项目注册资本超 200亿元,目标将294层3D NAND月产能提升至 20万片 以上。
市场分析预计,国产存储自给率将从2024年的15%提升至2026年的 30% 左右。
更值得关注的是,国产芯片已开始进入国际供应链,例如长鑫存储作为“第二供应商”进入惠普的供应链体系。虽然地缘政治和专利壁垒仍是挑战,但国内企业正通过持续的客户验证和技术迭代,逐步积累信任。
这场突围战,节奏正在加快。